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oai:miyazaki-mu.repo.nii.ac.jp:00000662 2023-07-27T07:14:28Z 11:20

高調波解析によるエッチング装置管理に関する基礎研究 Basic Study on Etching Equipment Control by Harmonics Analysis 辻, 利則 ツジ, トシノリ TSUJI, Toshinori 金子, 正光 カネコ, タダミツ KANEKO, Tadamitsu 林, 俊司 門川, 裕 森, 規 高調波 RF高調波 プラズマ エッチング プラズマモニタリング 半導体メモリの急激な価格低下に伴い、半導体メーカではチップコスト削減のために微細加工技術の開発が行われている。しかし、それに伴いプロセスマージンは大幅に減少し、製造装置の微小な特性の変化が不良品を生み出す原因となっている。また、この生産性の低下がチップコストを引き上げる一つの要因となり、悪循環をもたらしている。プラズマエッチング装置では、製造装置の微小な特性変化をプラズマ放電状態を直接モニタリングすることで可能となるが、チャンバ内へプローブを挿入する方法が一般的であり、プラズマ放電状態が変化する制約やそのためのリスクが多く生産現場での装置管理には適さないことが指摘されている。そこで、本研究では間接的なプラズマモニタリング手法としてRF高調波モニタリング技術を提案し、装置状態変化やエッチング処理状態変化との相関関係を検討した。その結果、プラズマ放電状態の変化によってRF高調波の電圧、電流の変化とそれらの位相差、有効電力の変化を観測することで、間接的なプラズマモニタリングへの利用が可能であることがわかった。 2000-03-21 jpn departmental bulletin paper https://miyazaki-mu.repo.nii.ac.jp/records/662 AN10457429 宮崎公立大学人文学部紀要 Bulletin of Miyazaki Municipal University Faculty of Humanities 7 1 211 219 https://miyazaki-mu.repo.nii.ac.jp/record/662/files/7(1)_014_Tsuji.pdf application/pdf 584.9 kB 2014-04-01